顯微鏡下材料的研磨
機(jī)械式材料去除的第一步被稱(chēng)為研磨。適當(dāng)研磨可去除受損或變形的表面材料，并將新變形的數(shù)量控制在有限范圍內(nèi)。研磨的目的是：獲得平整的表面，將損傷降到較低程度，并可在拋光過(guò)程中以較短的時(shí)間輕松去除這些損傷。研磨可劃分為兩個(gè)獨(dú)立的過(guò)程。
1. 粗磨，PG
2. 精磨，F(xiàn)G
第一步研磨通常被稱(chēng)為粗磨（PG）。
粗磨可保證所有試樣均獲得類(lèi)似的表面，不管其初始狀況及前期處理如何。另外，當(dāng)試樣座中有若干個(gè)試樣需要處理時(shí)，它們必須處于同一水準(zhǔn)或“平面”，以利于試樣的進(jìn)一步制備。
第一步研磨采用了 MD-Piano 或 MD-Primo。MD-Piano 是一款金剛石磨盤(pán)，專(zhuān)為 150 至2000 HV 硬度范圍內(nèi)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)。MD-Piano采用金剛石作為磨料，可提高去除率并縮短研磨時(shí)間。MD-Primo 是一款碳化硅磨盤(pán)，專(zhuān)為 40 至 150 HV 硬度范圍內(nèi)軟質(zhì)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)。MD-Piano 可在短時(shí)間內(nèi)始終獲得較高的材料去除量。這些研磨盤(pán)對(duì)硬質(zhì)和軟質(zhì)材料或位相均具有等效切削作用。因此，使用這些研磨盤(pán)可制備出絕對(duì)平整的試樣，不同位相間不會(huì)產(chǎn)生任何浮凸缺陷。樹(shù)脂與試樣交接面的邊角修圓缺陷也得到了徹底消除。
精磨而成的試樣表面僅有少量變形，可在拋光過(guò)程中消除。 鑒于研磨紙存在的各種缺陷，為了改善和提高精磨效果，司特爾公司研發(fā)了替代型精磨表面。
MD-Largo 和 MD-Allegro 是兩款復(fù)合精磨盤(pán)。顯微鏡制備過(guò)程中，金剛石懸浮液或噴霧劑定期噴涂，因而可獲得恒定的材料去除率。
同 MD-Piano 和 MD-Primo一樣，MD-Largo 和 MD-Allegro 的涂敷面積取決于所制備材料的硬度。MD-Largo 用于 40 至 150 HV 硬度范圍的軟質(zhì)材料或軟基體復(fù)合材料。MD-Allegro則用于硬度大于 150 HV 的材料。
精磨通常分多個(gè)步驟在粒度連續(xù)減小的碳化硅研磨紙上完成。采用 MD-Largo 或 MD-Allegro后，這些步驟可合并為一步完成。 典型使用的金剛石晶粒度為15至6微米。 隨后以6微米或3微米的晶粒度精磨，即可獲得完美表面。
精磨盤(pán)上涂敷了金剛石磨料，硬質(zhì)相和軟質(zhì)相材料均可獲得始終如一的材料去除率。 軟質(zhì)相材料不會(huì)產(chǎn)生污斑，脆質(zhì)相材料不會(huì)產(chǎn)生碎屑，試樣可保持完美的平面度。后續(xù)拋光步驟可在較短時(shí)間內(nèi)完成。即可在顯微鏡下觀察。
